Phin Lọc Bụi UNIX 223 P3 R D

Bộ lọc bụi UNIX 223 P3 R D với khả năng bảo vệ bổ sung khỏi khí và hơi hữu cơ ở mức tối đa 1 PEL được sử dụng cùng với mặt nạ lọc hoặc mặt nạ phòng độc UNIX trong môi trường có hàm lượng oxy ít nhất 17% theo thể tích.

Mã sản phẩm:
UNIX 223
Thương hiệu:
Zelinsky
Danh mục:
Phin Lọc
Share:
Yêu cầu báo giá

Phin lọc dễ dàng gắn vào mặt nạ nhờ kết nối kiểu lưỡi lê (bayonet). Phin lọc có khả năng chống bụi (D), có thể tái sử dụng (R) và thuộc nhóm bộ lọc hiệu suất cao (P3).

Cấp độ lọc: P3
Áp dụng: Sử dụng với mặt nạ phòng độc UNIX 1100, UNIX 5100, UNIX 6100
Thời hạn sử dụng: 5.5 năm
Tiêu chuẩn: EN 143

Sản phẩm liên quan

Phin Lọc Khí 40DAE2-P3
Phin Lọc Khí 40DAE2-P3
Phin lọc khí được thiết kế sử dụng với mặt nạ nguyên mặt FSM9800PLUS hoặc các thiết bị bảo vệ hô hấp có kết nối ren RD40, giúp bảo vệ khỏi khí và hơi độc hại. Đáp ứng tiêu chuẩn GB 2890-2022 và EN 14387:2021, phù hợp Quy định PPE EU (2016/425) và có thể tùy chỉnh theo yêu cầu.
Phin Lọc Khí 40DM2-P3
Phin Lọc Khí 40DM2-P3
Phin lọc khí được thiết kế sử dụng với mặt nạ nguyên mặt FSM9800PLUS hoặc các thiết bị bảo vệ hô hấp có kết nối ren RD40, giúp bảo vệ khỏi khí và hơi độc hại. Đáp ứng tiêu chuẩn GB 2890-2022 và EN 14387:2021, phù hợp Quy định PPE EU (2016/425) và có thể tùy chỉnh theo yêu cầu.
Phin Lọc Khí 40DAE2
Phin Lọc Khí 40DAE2
Phin lọc khí được thiết kế sử dụng với mặt nạ nguyên mặt FSM9800PLUS hoặc các thiết bị bảo vệ hô hấp có kết nối ren RD40, giúp bảo vệ khỏi khí và hơi độc hại. Đáp ứng tiêu chuẩn GB 2890-2022 và EN 14387:2021, phù hợp Quy định PPE EU (2016/425) và có thể tùy chỉnh theo yêu cầu.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro М 600 A2В2Е2К2NО Р3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro М 600 A2В2Е2К2NО Р3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOT M 460 A1B1E1K2+CO
Phin Lọc Đa Năng DOT M 460 A1B1E1K2+CO
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2-AX
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2-AX
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 A2B2E2K2P3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 A2B2E2K2P3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320+ K2P3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320+ K2P3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 HgP3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 HgP3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.