Thương hiệu: Zelinsky

Mặt Nạ Phòng Độc Nguyên Mặt MAG-4
Mặt Nạ Phòng Độc Nguyên Mặt MAG-4
Trong hơn 10 năm, mặt nạ phòng độc MAG đã tham gia bảo vệ người lao động trong nhiều lĩnh vực công nghiệp có nồng độ ô nhiễm không khí cao đến từ nhiều tác nhân khác nhau như: khí và hơi độc hại, hạt bụi cứng (bụi bẩn, mạt khói, hạt dạng sương) Mặt nạ MAG có thê sử dụng phin lọc DOT Pro với phiên bản vỏ nhựa và phin lọc DOT với phiên bản vỏ kim loại thông qua khớp kết nối ren
Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt UNIX 1100
Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt UNIX 1100
Mặt nạ phòng độc nữa mặt sử dụng phin lọc phù hợp sử dụng bảo vệ hệ hô hấp tránh tiếp xúc với khí và hơi độc hại và các hạt bụi (bụi bẩn, mạt khói, hạt dạng sương) hiện diện trong không khí tại khu vực làm việc.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro М 600 A2В2Е2К2NО Р3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro М 600 A2В2Е2К2NО Р3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOT M 460 A1B1E1K2+CO
Phin Lọc Đa Năng DOT M 460 A1B1E1K2+CO
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2-AX
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2-AX
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 A2B2E2K2P3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 A2B2E2K2P3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320+ K2P3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320+ K2P3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 HgP3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 HgP3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 A2P3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 A2P3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc UNIX P3
Phin Lọc UNIX P3
Phin lọc UNIX trang bị khớp kết nối lưỡi lê (bayonet) được thiết kế làm sạch không khí có chứa khí và hơi độc hại và bụi bẩn, như một phần của mặt nạ phòng độc nữa mặt và mặt nạ phòng độc nguyên mặt thế hệ UNIX. Phin lọc chỉ được chỉ dụng khi nồng độ ô-xi trong không khí không thấp hơn 17%
Phin Lọc Bụi UNIX 223 P3 R D
Phin Lọc Bụi UNIX 223 P3 R D
Bộ lọc bụi UNIX 223 P3 R D với khả năng bảo vệ bổ sung khỏi khí và hơi hữu cơ ở mức tối đa 1 PEL được sử dụng cùng với mặt nạ lọc hoặc mặt nạ phòng độc UNIX trong môi trường có hàm lượng oxy ít nhất 17% theo thể tích.