Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt SM5200
Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt SM5200

Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt SM5200

Thiết kế mặt nạ có thể tái sử dụng đa năng mang lại độ thoải mái tối ưu, bảo vệ hiệu quả trong môi trường bụi và các loại khí/hơi độc hại. Mặt nạ được thiết kế và chế tạo theo quy trình nghiêm ngặt, đáp ứng các tiêu chuẩn GB262-2019, GB 2890-2022, EN 140:1998, EN 14387:2021 và EN 143:2021. Phù hợp sử dụng trong các môi trường làm việc khắc nghiệt, ô nhiễm bởi bụi và khí/hơi độc, mang lại giải pháp bảo vệ toàn diện và tối ưu cho người sử dụng.

Mã sản phẩm:
SM5200
Thương hiệu:
Share:
  • Thiết kế với dây đeo đầu có thể điều chỉnh, tích hợp cơ chế thay phin lọc nhanh chóng.
  • Viền làm kín mặt bằng silicone gel, mang lại sự thoải mái và ổn định, với bề mặt trong mềm mại nhưng vẫn đảm bảo độ kín khít cao.
  • Thiết kế đa năng, có thể kết hợp với phin lọc thế hệ 4200N cùng phin lọc bụi N3501 và khớp kết nối PP3501 cho môi trường làm việc phức tạp, hoặc sử dụng với phin lọc bụi N4200 cho môi trường nhiều bụi.
  • Khoang thở rộng, giúp dễ dàng khi hít vào và thở ra.
  • Trọng lượng nhẹ, sử dụng vật liệu thân thiện môi trường, tuổi thọ bảo quản thời gian dài, giúp tiết kiệm chi phí trong dài hạn.
Chất liệu: Vành làm kín: Silicone+PC
Dây đeo: Sợi Polyster
Khóa cài Polypropylene
Weight: 6.5 Kgs
Standards: Chứng nhận theo GB262-2019, GB 2890-2022, EN 140:1998, EN 14387:2021 và EN 143:2021

Sản phẩm liên quan

SM8700 Half Face Mask
SM8700 Half Face Mask
Mask body is designed to pair with bayonet 3100N/8501N series of gas filter or N200/P200/N201/P201/8500 series of particle filter, in accordance with GB2890-2009, EN 140:1998 EU Regulation (2016/425), which can be customized.
Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt UNIX 1100
Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt UNIX 1100
Mặt nạ phòng độc nữa mặt sử dụng phin lọc phù hợp sử dụng bảo vệ hệ hô hấp tránh tiếp xúc với khí và hơi độc hại và các hạt bụi (bụi bẩn, mạt khói, hạt dạng sương) hiện diện trong không khí tại khu vực làm việc.
Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt Polimask Gamma
Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt Polimask Gamma
Mặt nạ phòng độc nửa mặt theo tiêu chuẩn EN 140, tùy chọn chất liệu cao su EPDM và Silicone. Phù hợp sử dụng với phin lọc thế hệ 200, 230 và DIRIN 230 - DIRIN 300 trang bị khớp kết nối ren theo tiêu chuẩn EN 148/1
Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt Polimask Beta
Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt Polimask Beta
Mặt nạ phòng độc nữa mặt theo tiêu chuẩn EN 140, tùy chọn chất liệu cao su EPDM và Silicone. Phù hợp sử dụng với phin lọc thế hệ 200, 230 và DIRIN 230 - DIRIN 300 trang bị khớp kết nối ren theo tiêu chuẩn EN 148/1
Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt Polimask100/2
Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt Polimask100/2
Mặt nạ phòng độc nữa mặt theo tiêu chuẩn EN 140, tùy chọn chất liệu cao su EPDM và Silicone. Phù hợp sử dụng với phin lọc thế hệ 200, 230 và DIRIN 230 - DIRIN 300 trang bị khớp kết nối ren theo tiêu chuẩn EN 148/1
Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt SM6200
Mặt Nạ Phòng Độc Nửa Mặt SM6200
Chất liệu mặt nạ được thiết kế tương thích với các dòng phin lọc khí 3100N/8501N hoặc phin lọc bụi N200/P200/N201/P201/8500. Mặt nạ đáp ứng các tiêu chuẩn GB2890-2009, EN 140:1998 và Quy định PPE (EU) 2016/425. Có thể tùy chỉnh theo yêu cầu