Phin Lọc Đa Năng UNIX 531 A1B1E1K1

Phin lọc đa năng UNIX 531 A1B1E1K1 phù hợp sử dụng với mặt nạ phòng độc nửa mặt và nguyên mặt thế hệ UNIX nhằm bảo vệ cơ quan hô hấp tránh tiếp xúc với khí và hơi hữu cơ có nhiệt độ sôi trên 65 °C, khí và hơi vô cơ, khí và hơi a-xít, Ammonia và dẫn xuất của Ammonia.

Mã sản phẩm:
UNIX 531
Thương hiệu:
Zelinsky
Danh mục:
Phin Lọc
Share:
Yêu cầu báo giá

Phin lọc UNIX trang bị khớp kết nối lưỡi lê (bayonet) được thiết kế làm sạch không khí có chứa khí và hơi độc hại và bụi bẩn, như một phần của mặt nạ phòng độc nửa mặt và mặt nạ phòng độc nguyên mặt thế hệ UNIX. Phin lọc chỉ được chỉ dụng khi nồng độ ô-xi trong không khí không thấp hơn 17%

Cấp độ lọc: A1B1E1K1
Áp dụng: Sử dụng với mặt nạ phòng độc UNIX 1100, UNIX 5100, UNIX 6100
Thời hạn sử dụng: 5.5 năm
Tiêu chuẩn: EN 14387

Sản phẩm liên quan

Phin Lọc Đa Năng DOTpro М 600 A2В2Е2К2NО Р3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro М 600 A2В2Е2К2NО Р3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOT M 460 A1B1E1K2+CO
Phin Lọc Đa Năng DOT M 460 A1B1E1K2+CO
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2-AX
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2-AX
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 A2B2E2K2P3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 A2B2E2K2P3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320+ K2P3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320+ K2P3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 HgP3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 HgP3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 A2P3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 A2P3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc UNIX P3
Phin Lọc UNIX P3
Phin lọc UNIX trang bị khớp kết nối lưỡi lê (bayonet) được thiết kế làm sạch không khí có chứa khí và hơi độc hại và bụi bẩn, như một phần của mặt nạ phòng độc nữa mặt và mặt nạ phòng độc nguyên mặt thế hệ UNIX. Phin lọc chỉ được chỉ dụng khi nồng độ ô-xi trong không khí không thấp hơn 17%
Phin Lọc Bụi UNIX 223 P3 R D
Phin Lọc Bụi UNIX 223 P3 R D
Bộ lọc bụi UNIX 223 P3 R D với khả năng bảo vệ bổ sung khỏi khí và hơi hữu cơ ở mức tối đa 1 PEL được sử dụng cùng với mặt nạ lọc hoặc mặt nạ phòng độc UNIX trong môi trường có hàm lượng oxy ít nhất 17% theo thể tích.