Phin Lọc Khí 4200NAE A1E1
Phin Lọc Khí 4200NAE A1E1
Phin Lọc Khí 4200NAE A1E1
Phin Lọc Khí 4200NAE A1E1
Phin Lọc Khí 4200NAE A1E1
Phin Lọc Khí 4200NAE A1E1

Phin Lọc Khí 4200NAE A1E1

Phin lọc khí được thiết kế sử dụng kết hợp với mặt nạ nửa mặt SM5200, sử dụng cơ chế khóa kết nối đặc biệt nhằm bảo vệ người dùng khỏi các loại khí và hơi độc hại theo tiêu chuẩn GB2890-2022 và EN 14387:2021 theo quy định EU (2016/425)

Mã sản phẩm:
4200NAE
Thương hiệu:
Semask
Danh mục:
Phin Lọc
Share:
Yêu cầu báo giá
  • Thiết kế dùng một lần, tiết kiệm chi phí.
  • Dễ dàng lắp đặt và có độ bền cao.
Cấp độ bảo vệ: A1E1
Chất Liệu: PC + vải không dệt
Than hoạt tính giúp lọc: Hơi hữu cơ, khí sulfur dioxide (SO₂), khí hydrogen sulfide (H₂S)
Sử dụng với: SM5200

Sản phẩm liên quan

Phin Lọc Đa Năng DOTpro М 600 A2В2Е2К2NО Р3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro М 600 A2В2Е2К2NО Р3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOT M 460 A1B1E1K2+CO
Phin Lọc Đa Năng DOT M 460 A1B1E1K2+CO
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2-AX
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2-AX
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 460+ A2B2E2
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 A2B2E2K2P3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 A2B2E2K2P3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320+ K2P3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320+ K2P3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 HgP3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 HgP3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 A2P3 R D
Phin Lọc Đa Năng DOTpro 320 A2P3 R D
Phin lọc được thiết kế sử dụng với mặt nạ phòng độc MAG. Phin lọc được sử dụng bảo vệ chống khí/hơi độc hại, bụi bẩn nhằm giảm thiểu tác động có hại ảnh hưởng đến hệ hô hấp.
Phin Lọc UNIX P3
Phin Lọc UNIX P3
Phin lọc UNIX trang bị khớp kết nối lưỡi lê (bayonet) được thiết kế làm sạch không khí có chứa khí và hơi độc hại và bụi bẩn, như một phần của mặt nạ phòng độc nữa mặt và mặt nạ phòng độc nguyên mặt thế hệ UNIX. Phin lọc chỉ được chỉ dụng khi nồng độ ô-xi trong không khí không thấp hơn 17%
Phin Lọc Bụi UNIX 223 P3 R D
Phin Lọc Bụi UNIX 223 P3 R D
Bộ lọc bụi UNIX 223 P3 R D với khả năng bảo vệ bổ sung khỏi khí và hơi hữu cơ ở mức tối đa 1 PEL được sử dụng cùng với mặt nạ lọc hoặc mặt nạ phòng độc UNIX trong môi trường có hàm lượng oxy ít nhất 17% theo thể tích.